Fremgangsmåtene ifølge fore SILAR deponering av tynne filmer

Den påfølgende Ionic Layer Absorpsjon og Reaction metoden brukes til å lage tynne filmer fra en rekke forskjellige underlag og å produsere ulike belegg for programmer, inkludert solcellepaneler og halvledere. Den SILAR metoden er en kjemisk bad løsning metode som er en forlengelse av den tilsvarende kjemiske bad tynn film produksjonsmetode.

Metode

Den SILAR metoden ble først registrert som blir brukt i 1985 i laboratoriemiljø, med navnet SILAR først brukt i vitenskapelige tidsskrifter av samme år, ifølge den indiske Academy of Sciences. Den tynne film produksjonsmetoden kjent som SILAR krever filmen å bli nedsenket i de kjemikalier som er nødvendig for å skape et kjemisk oppløsning over substratet. Mellom hver nedsenkning av filmen i de kjemikalier, blir filmen skylles ved anvendelse av renset vann for å skape den ønskede belegg over filmen.

materialer

En av fordelene med den SILAR fremgangsmåte for belegning av tynne filmer er antallet av forskjellige materialer som kan brukes til å lage en film for en ønsket anvendelse. Materialer som kan brukes i fremgangsmåten omfatter temperaturfølsomme substrater, som for eksempel polyester, fordi SILAR fremgangsmåten er fullført ved eller nær romtemperatur, noe som betyr at skade ikke er forårsaket av ekstreme temperaturer på andre tynne film metoder. Materialer som halvledere som kan skades på andre måter kan opprettes i SILAR metoden for tynn film produksjon.

Produksjon

Den SILAR metoden brukes til å lage belegg på tynne filmer for teknologiske produkter som fotovoltaiske celler som konverterer sollys til energi til bruk i solenergi applikasjoner. Ved å la tynne filmer som skal belegges i forskjellige kjemikalier ved eller nær romtemperatur, metallisk film eller filmer som omfatter metalldeler kan bruke SILAR fremgangsmåte og unngå mulige problemer med skade forårsaket av oksydasjon eller korrosjon, rapporterer den indiske Academy of Sciences. Andre metoder for tynn film deponering bruke overføring av atomer for å tilveiebringe et belegg over tynne filmer. Den SILAR metoden bruker overføring av ioner som gir bedre dekning av kjemikalier over filmen, og kan resultere i en finere kornstruktur enn andre avsetningsmetoder.

Fordeler

De viktigste fordelene med SILAR deponering metode omfatter enkle å fullføre metoden og den relative lave kostnader. For små mengder av substrater som skal behandles ved hjelp av SILAR metoden, kan prosessen fullføres ved hjelp av begerglass. Den indiske vitenskapsakademiet sier SILAR metoden ikke krever materialer av høy kvalitet som brukes i andre deponering prosesser, for eksempel lukket damp deponering. Den enkle programmet lar tykkelsen av tynne filmer opprettet ved hjelp av SILAR metoden som skal kontrolleres lettere enn i andre programmer.